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無塵烤箱，無氧烤箱，充氮烤箱，加壓烤箱
添加時間：2019-07-24
百級無塵室烤箱 簡介：無塵室烤箱適用于半導體芯片行業，硅片，砷化鎵、鈮酸鋰、光學玻璃等材料的預熱處理烘烤；涂膠后堅膜烘烤和顯影后高溫烘烤；也適用于電子液晶顯示、LCD、CMOS、IS、醫藥制品、實驗室等生產及科研部門；HMDS無塵烤箱可以在硅片、基片表面均勻涂布一層HMDS保護層，降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。
1、溫控系統：采用觸摸屏一體機控制器，內置2回路溫度控制，多段溫度設備，多段時間設置功能，具有選段工藝烘烤，跳段工藝烘烤，操作人員記錄，日本進口PID溫控模塊，4路控制器，高溫上限報警，程序運行結束報警功能，熱電偶失效指示，溫度曲線記錄，可將烤箱內實時環境溫度進行檢測打印的功能。
2、軟件系統：控制系統采用昆侖通泰觸摸屏控制器，可與現場總線聯機遠程操控。
3、HMDS烤箱重要性：在半導體、LCD琉璃、液晶屏幕生產藝藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝顯得尤為重要，光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條，浮膠等，導致光刻圖形轉移的失敗，同時濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。
4、充氮系統：作用是在置換過程中，用氮氣來逐漸稀釋空氣或藥液蒸汽，從而最終替空氣或藥液蒸汽的氣氛，主要由氮氣源、控制閥和噴頭組成。
用途：
百級潔凈烤箱用于半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰玻璃等材料涂膠前的預處理烘烤,涂膠后堅膜烘烤和顯影后的高溫烘烤;也適用于電子液晶顯示、LC、，COMOS、IS、醫藥、實驗室等生產及科研部門;也可用于非揮發性及易燃易爆物品的干燥，熱處理，老化等其他高溫實驗。
無塵無氧烤箱應用于精密電子元件、PI、BCB膠高溫固體烘烤、光刻膠固體、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于接觸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業。
無氧烤箱應用于精密電子元板、PI、BCB膠高溫固體烘烤、光刻膠固體、電子陶瓷材料無塵烘干的特殊工藝要求，適用于接觸屏、晶圓、LED、PCB板、ITO玻璃等精密電子、太陽能、新材料等行業。
HMDS無塵烤箱降低了HMDS處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠于硅片的粘附性。適用于硅片、砷化鎵、陶瓷、不銹鋼、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料預處理及相關行業。在半導體生產工藝中，光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環節，涂膠質量直接影響到光刻的質量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的粘合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮條等，導致光刻圖形轉移失敗，同事濕法腐蝕容易發生側向腐蝕。增粘劑HMDS（六甲基二硅氮烷）可以很好的改善這種狀況。將HMDS涂到半導體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍寶石、晶圓等材料表面后，經烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面的由親水變為疏水，其疏水可很好的于光刻膠結合，起著偶聯劑的作用。
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